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電子機器や精密部品を扱う製造現場では、静電気放電による破損や微粒子の付着が重大な品質トラブルを招きます。
特に半導体ウェハや有機ELパネルは、数十ボルトの放電でも欠陥が発生するため、帯電防止対策が必須です。
コーティングによって表面抵抗値を調整し、静電気を安全に逃がすことが一般的な解決策となっています。
従来の帯電防止膜は導電性高分子やカーボンブラックを分散させて作製されます。
しかし、樹脂基材との界面密着性が弱く、摩耗や洗浄で性能が低下しやすいという課題が残ります。
また、導電剤の粒径が大きいほど光学的透明性が損なわれ、ディスプレイ用途では採用が難しくなります。
本研究では、導電率が高い一次粒径20nm以下の酸化スズドープ酸化亜鉛(AZO)ナノロッドを導電フィラーに採用しました。
さらに、シロキサン系マトリクスに官能基を導入し、ナノロッド表面との共有結合を形成させることで、剥離を抑制します。
フィラーのアスペクト比を2〜5にそろえると、三次元ネットワークが形成され、導電パスが長期安定化します。
このナノ構造を200nm以下の厚みで均一に形成することで、光透過率92%以上を維持しながら表面抵抗値108Ω/sqを実現しました。
金属アルコキシド溶液に界面活性剤と有機シランを加え、pH 4.5で加水分解・縮合反応を進行させます。
この段階でナノロッドを均一分散させると、後工程での凝集を防げます。
成膜はサブストレート温度80℃でエアガンを用いて行います。
続いて150℃、30分の熱処理でシロキサン骨格を架橋し、耐摩耗性を付与します。
連続ロール・トゥ・ロール装置でのスプレー条件最適化が鍵となります。
溶剤揮発速度とナノロッド沈降を制御しないと膜厚ムラが生じるため、溶剤混合比のリアルタイム制御が必須です。
40℃、90%RH環境で1000時間エージングしても表面抵抗値の変化率は±10%以内でした。
これはナノ構造が水分吸着による抵抗上昇を抑えた結果です。
JIS K 5600に準拠した往復摩耗テスト1000回後でも、透明度低下は1%未満、抵抗値上昇は0.3桁以下にとどまりました。
従来品と比較して約5倍の耐久寿命となります。
UV照射4000時間、塩水噴霧500時間の複合試験でもクラックや黄変は観察されず、屋外用途への適用可能性が裏付けられました。
クリーンルーム内の搬送トレイやロボットアームに適用すると、パーティクル付着と帯電破壊を同時に低減できます。
高い透明性と指紋付着抑制効果を併せ持つため、スマートフォンや車載ディスプレイに採用が期待されます。
低温と乾燥が厳しい機内では静電気によるほこり吸着が顕著です。
本コーティングを座席部材や窓ガラスに適用すると清掃頻度を減らし、メンテナンスコストを削減できます。
世界の帯電防止コーティング市場は2023年に約10億ドル、年平均成長率7%で拡大しています。
特にナノ材料を活用した高機能タイプの需要割合は30%を超え、2028年には50%に達すると予測されています。
日本企業が強みを持つ精密成膜技術と組み合わせれば、高付加価値製品として海外展開も有望です。
ナノロッド以外にグラフェンやCNTをハイブリッド化し、さらなる導電ネットワークの高密度化が検討されています。
また、生体適合樹脂と組み合わせて医療機器用カテーテルやウェアラブルセンサーへの応用も進む可能性があります。
AIを用いた多変量解析で配合条件を最適化し、試作サイクルを短縮する取り組みも重要です。
ナノ構造を戦略的に設計することで、帯電防止コーティングは耐久性と透明性を両立できる段階に到達しました。
酸化スズドープ酸化亜鉛ナノロッドとシロキサンマトリクスの共有結合により、摩耗試験で従来比5倍の寿命を実現しています。
製造現場、ディスプレイ、航空機など多様な市場で採用メリットが見込まれ、ビジネス機会は拡大しています。
今後はハイブリッド材料やAI駆動の工程最適化によって、さらなる高性能化と量産性向上が期待されます。

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