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最先端！フォトリソグラフィー技術と製造業の未来ビジョン
フォトリソグラフィー技術と製造業
フォトリソグラフィー技術は、半導体製造など微細加工技術の分野では欠かせない存在となっていますが、最近では新たな可能性が注目されています。
フォトリソグラフィーは、製造過程における加工幅の拡大や精度の向上で大きな限界が指摘されてきましたが、近年では新たな解像度向上技術が開発され、また多様な波長の光源技術の進歩により、従来は不可能と考えられていた細かな構造の製造が実現しつつあります。
例えばEUV(極端紫外光)リソグラフィを用いた半導体プロセスでは、従来世代の半導体チップに比べ2倍以上の集積度が実現でき、高速・低消費電力化が図れる見込みです。また新規波長の光源技術を用いて、製薬や生体材料分野などで微細な3D構造体を高精度で形成できる可能性が検討されています。
加えてエルビウムファイバーレーザなどを用いたマルチフォトン照射による非線形光学効果を活用した高屈折率樹脂の直接型加工技術も開発されており、従来は加工が困難だった複雑な3D対象を、1工程で高精度に成形することが期待できるようになっています。
以上のように、フォトリソグラフィー技術の進化は、半導体だけでなく、生命科学や新素材分野など、様々な製造業分野の新技術開発と産業活性化に大きな影響を与えると考えられます。
今後10年以内には、ナノサイズ以上の高精細かつ柔軟な3D構造体の大量生産化などが実現し、製造業のパラダイムシフトが起こる可能性がありそうです。
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